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基礎統計學(四版)

為了解決excel比例計算的問題，作者吳冬友,楊玉坤 這樣論述：

　　本書內容有三大單元, 共計十六章 　　(1) 敘述統計: 第一章 ~ 第四章 　　(2) 基礎機率: 第五章 ~ 第八章 　　(3) 推論統計: 第九章 ~ 第十六章   　　本書適合作為各科系所之統計學應用統計學之教科書, 也適合作為專题研討 講習或實務進修課程之教材。 　　習題解答及補充資料，請至五南官網www.wunan.com.tw 　　輸入書號1H28，即可找到下載處。

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類比電路佈局人員任務指派系統之建置-以M公司為例

為了解決excel比例計算的問題，作者伍峻毅 這樣論述：

隨著半導體製程的演進，電晶體通道長度已從早期微米等級進步到奈米等級，每顆IC所需光罩數量已從幾十道進展到上百道，每次的生產成本更由百萬上升至數億新台幣的規模，也因此，近代電路設計流程上的準確性，便顯得相當重要及謹慎。就類比電路佈局而言，傳統任務指派方式乃由類比電路設計工程師提出佈局需求後，類比電路佈局主管大都採直接指定類比電路佈局人員，或者安排閒置類比電路佈局人員參與計畫。此傳統指派方式對於特殊性較高之佈局需求(例如在時限內需快速完成佈局、電路對稱性講究之佈局，電路速度快以致佈局難度較高之需求)，在實務上較不能讓具有相關佈局經驗的人員適才適所。本研究提出一種任務指派系統，此系統可透過評估類比

電路佈局人員的經驗及其所長，利用重新規劃之類比電路佈局人員作業資訊，並以Excel VBA程式撰寫任務指派程式。在類比電路佈局工程進行前，透過此系統輸入佈局人員需求條件，系統可篩選出適合佈局需求的類比電路佈局人員，進行類比電路佈局工程。本研究從常見的類比電路佈局類型，挑選出六件案例作為測試。透過分析層級程序法給予不同重要性尺度，並計算出所個別的權重比例與通過一致性檢驗後，輸入相對應條件至系統內並判讀其輸出結果。測試結果顯示共有五件測試案例輸出符合條件需求，一件不符合，系統建置與判斷上已具備正確性，但仍有進一步的改善空間。

超高效 Google 雲端應用：打造競爭優勢的必勝工作術

為了解決excel比例計算的問題，作者胡昭民,ZCT 這樣論述：

收錄 Google 諸多雲端工具的使用方法 體驗雲端服務的魅力，培養跨領域多元整合的IT競爭力！   　　生活中，總有一個地方會使用到 Google 吧！本書網羅 Google 所提供的眾多應用程式，將其使用方法以平易近人的筆觸進行詳細的解說。透過本書你可以徹底掌握這些應用程式的使用技巧，不論是在生活或工作上，必定有可以派得上用場的時候。善用 Google 所提供的雲端工具：享受科技所帶來的便利，輕鬆提升工作效率。本書將是你快速入門與熟悉 Google 應用程式的最佳利器。   　　主要章節 　　・說明雲端運算，介紹什麼是雲端服務 　　・Chrome 瀏覽器的搜尋技巧，包含圖片／影片／學術

搜尋 　　・最多可支援 10 GB 附加檔案的 Gmail 　　・隨時隨地都能掌握行程的線上日曆 　　・線上地圖（MAP）和申請我的商家 　　・利用 Hangouts 即時通訊進行商務活動 　　・Sites 協作平台：線上網頁設計及網站架設工具 　　・提供上傳、分類、分享照片的網路相簿 　　・可自由儲存在網路並且共用檔案的雲端硬碟 　　・Google Meet：遠距教學／居家上課／線上會議的最佳選擇 　　・Google Office 必備工具：文件／試算表／簡報 　　・YouTube：影片上傳／編修／行銷 　　・Google 搜尋引擎最佳化（SEO）：關鍵字廣告、搜尋引擎運作原理、語音搜尋 　

　・人工智慧（AI）：Google 的核心關鍵技術 　　・Google Analytics 數據分析：輕鬆學會 GA 與 GA4 的入門輕課程   　　目標讀者 　　・想將雲端工具運用在生活或職場上的人 　　・想掌握 Google 應用程式相關基礎知識的人 　　・對雲端服務或是人工智慧（AI）有興趣的人   本書特色   　　系統化整理：迅速掌握各項應用程式的核心功能 　　操作畫面豐富：搭配逐步解說，淺顯易懂好吸收 　　強化資訊知識：善用雲端科技，培養職場競爭力

利用蒙地卡羅法與粒子網格法分析整合式陽極層離子源離子束濺鍍模組特性研究

為了解決excel比例計算的問題，作者陳敬修 這樣論述：

本研究提出了一種整合式陽極層離子源離子束濺鍍模組(Integrated Anode Layer Ion Source Ion Beam Sputtering Module, IAIBS)，並建立粒子模型數值模擬平台，用來分析此濺鍍模組的系統特性。IAIBS模組的設計概念，是以環形結構之陽極層產生環形離子源並形成離子束。此離子束經由外部可控電場的加速與軌跡引導，以高能量狀態轟擊靶材表面造成濺鍍效應。與傳統離子束濺鍍系統不同的是，IAIBS將靶材整合至模組中，大幅減少濺鍍系統的體積。本實驗室已將IAIBS模組成功應用於薄膜沉積實驗。同時為了進一步了解IAIBS模組的濺鍍特性，本研究使用的粒子模型

數值模擬，採用了蒙地卡羅碰撞法（MCC）與粒子網格演算法（PIC）。 MCC 方法是以機率統計為核心概念的粒子碰撞法，本研究用於計算環形幾何結構 IAIBS模組中，氬氣原子的空間分佈狀態。根據這個原子分佈的結果，可以進一步獲得氣體壓力分佈的模擬結果，而此是中性氣體離子化程度的重要依據，亦即IAIBS模組中離子束的空間分佈狀態。另一方面，PIC演算法用於處理預先定義的網格空間中，帶電粒子於電場中的運動軌跡。此方法可以同時保有粒子運動狀態的正確性，並大量減少運算過程所需要的耗時步驟。除了利用MCC/PIC方法對IAIBS模組進行特性分析，薄膜沉積後的雜質污染源也是本研究討論的一個重要問題。污染源可

能來自反應性氣體原子，或是在IAIBS模組中被高能離子轟擊的不銹鋼電極結構。此推論的明顯證據是在IAIBS模組經過長時間使用後，金屬電極上有明顯的離子轟擊痕跡，因此薄膜沉積的金屬雜質，以及如何降低雜質汙染，是本研究探討的主要議題。為此，本研究利用數值模擬來評估雜質來源，並同時藉由模擬不同濺鍍參數配置的結果，來獲得降低鐵原子雜質污染的濺鍍條件。根據模擬結果顯示，IAIBS模組的上陰極偏壓為0 V，陽極偏壓為650 V以及靶材偏壓為-200 V時，可以有效將雜質降低。此模擬結果也搭配利用IAIBS模組在石英基板上沉積銀薄膜，用以確認鐵原子雜質污染的改善問題。鍍銀薄膜是利用二次離子質譜儀(SIMS)

來分析薄膜元素。其結果證實，藉由調整電極偏壓，銀薄膜中的鐵原子雜質比例可降低10倍。本研究的結果，利用MCC/PIC模擬方法，分析中性氣體原子在IAIBS模組中的分布情形，以及離子源產生區域的空間分布，並模擬離子束在不同電極偏壓條件下的特性。鍍銀薄膜的SIMS檢測數據也顯示與模擬結果相符，驗證了經由調整IAIBS模組的參數配置，可以有效地減少鐵原子雜質污染。藉由本研究建立的模擬平台，將來可以為日後的改良或新設計，提供一個快速且正確的參考依據。