雷射波長比較的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列問答集和懶人包總整理

VCSEL 技術原理與應用

為了解決雷射波長比較的問題，作者盧廷昌,尤信介 這樣論述：

　　垂直共振腔面射型雷射的發展與量產將近40年，在光通訊與光資訊領域已經成為不可或缺的主動光源最佳解決方案，並在近10年陸續應用在各式各樣的感測器相關用途，因此相關產業也開始進入高速成長期。 　　本書主要針對大專院校及研究所具備物理、電子電機、材料、半導體與光電科技相關背景的學生以及相關產業研發人員，提供一個進階課程所需的參考書。全書共分為七章，第一章將介紹面射型雷射發展歷程，第二章主要說明半導體雷射操作原理接續第三章針對面射型雷射結構設計考量與第四章動態操作等特性分析，第五章介紹目前最廣泛應用的砷化鎵系列材料面射型雷射製程技術，第六章探討長波長面射型雷射製作技術以及在光

通訊、光資訊以及感測技術上的應用，第七章介紹採用氮化鎵系列材料製作短波長面射型雷射之最新進展以及相關應用及發展趨勢。 　　臺灣在面射型雷射技術研發已經形成涵蓋上中下游的磊晶成長、晶粒製程與封裝模組的完整產業鏈，希望讀者能藉由本書了解相關產業發展概況並激發深入研究的動機與興趣。  

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以脈衝雷射沉積法製備BiFeO3薄膜於玻璃基板上及其結構與鐵電性之研究

為了解決雷射波長比較的問題，作者田士宏 這樣論述：

本實驗採用脈衝雷射沉積法(PLD)製備BiFeO3(BFO)薄膜於商用Pt/Ti/SiO2/Si(100)與Pt/glass基板上，研究成長溫度、氧氣壓力、Pt底層厚度及靶材狀態之效應對其結構、微觀組織及鐵電特性之影響。實驗結果顯示，因BFO/Pt介面於glass基板較Pt/Ti/SiO2/Si(100)基板平坦，使得於glass基板上之BFO膜面較緻密，而呈現較佳鐵電特性。其次，於500 oC之成長溫度下，氧氣壓力由10 mtorr提高至30 mtorr，因氧空缺之減少及漏電流之降低而提高其鐵電性；不過氧氣壓力再提高使得Bi2O3相出現與BFO表面之粗化而提高其漏電流，因而降低其鐵電性；過

高之氧壓(90 mtorr)因大量Bi2O3相產生使得鐵電性消失。當氧氣壓力為30 mtorr時，有最佳之鐵電性，其為2Pr = 124 μC/cm2及Ec = 351 kV/cm，此可媲美於BFO薄膜沉積於單晶氧化物基板之特性。再者，改變Pt底層厚度進行BFO薄膜沉積，在Pt底層膜厚為5-50 nm時，BFO膜皆呈現(001)優選取向，且其表面粗糙度及鐵電性與BFO/Pt介面高度相關。Pt膜厚由5 nm提高至20 nm，其介面粗糙度降低導致BFO表面粗糙度降低，因而降低其漏電流與提高其鐵電性；不過，過厚的Pt底層使BFO表面粗糙度提高，因而提高其漏電流與降低其鐵電性。最後，比較不同狀態之B1

.1FeO3靶材製成BFO薄膜之結構與鐵電性，實驗結果得知多相且晶粒較細之靶材所製成BFO薄膜，有較細的晶粒及較緻密之堆積，因而有較低之漏電流與較佳之電性。

光電系統設計：方法、實用技術及應用

為了解決雷射波長比較的問題，作者吳晗平 這樣論述：

本書基於光學、機械結構、電子、電腦、軟體、控制等方面的綜合一體化思路，系統論述了光電系統設計的方法與實踐。全書共分12章，內容包括光電系統及其設計概要、目標與環境輻射及其工程計算、輻射大氣透過率的工程理論計算、光學系統及其設計、紅外凝視成像系統及其工程技術設計、CCD與CMOS及其應用系統設計、光電微弱信號處理及設計、光電系統作用距離工程理論計算及總體技術設計、太陽能光伏發電及其系統設計、光電系統軟體開發與設計、光電系統結構及模塊化設計、光電伺服控制系統及設計。 本書融合了作者的實際工作經驗與科研成果，並融合了基礎理論與工程案例。本書可供從事光電系統（裝備）研究、總體論證

、技術設計、研製、試驗、檢驗等方面工作的工程技術與管理人員學習、參考，也可作為高等院校光學工程、電子科學與技術、儀器科學與技術、控制科學與工程、兵器科學與技術等相關專業的高年級本科生或研究生的教材。