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化學機械研磨製程之虛擬量測技術

為了解決成大機械備取的問題，作者易佳賢 這樣論述：

我國半導體是以生產製造為主，如何降低生產成本、增加設備效能、減少製程風險及提昇製程良率，為提升其國際競爭力最重要的因素。目前的半導體廠大部分仍是採用統計製程管制技術來監控製程參數，以例行測機及預防保養等方式提高製程穩定性，改善製程良率。對於無預警式的系統良率損失來說，當製程中發生異常時，會造成大量數目的報廢，嚴重地影響到成本與產能。 本篇論文以化學機械研磨(Chemical Mechanical Polishing，CMP)製程結合虛擬量測(Virtual Metrology, VM)的概念，再搭配類神經網路與模擬控制，進行趨勢預測以與配方調整預測，整合這兩方面對於響應的影響來做量测的

預測，以達到改善製程及提昇設備效能的目標。 在虛擬量測的系統架構下，結合趨勢狀態與配方響應的預測結果，在模擬資料的部分，從半導體廠中化學機械研磨設備取得，取針對影響研磨速率最重要的研磨平台轉速、研磨頭轉數、製程時間以及研磨時之下壓力量，作為神經網路的輸入，每秒的研磨量作為輸出，以網路學習方式來建立類神經網路系統模型，並以實際預測兩台CMP機台參數來驗證平均絕對誤差在0.944Å/sec與0.967Å/sec，而整體虛擬量測系統的預測結果的準確性令人滿意。